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簡要描述：嘉興市智能光催化反應(yīng)儀控溫型反應(yīng)釜內(nèi)的溫度控制是化工生產(chǎn)過程的中心環(huán)節(jié)，目的是保證反應(yīng)過程的產(chǎn)物達(dá)到y(tǒng)i定質(zhì)量和控制要求，并確保反應(yīng)的安全進(jìn)行。由于溫度能地測量與分析，并且能夠yi定程度上反映出釜內(nèi)化學(xué)反應(yīng)的過程，所以選用溫度為間接參數(shù)是Z有效的方法。因此本作品的主要任務(wù)就是要實(shí)現(xiàn)溫度的智能控制。
更新時(shí)間：2024-12-15廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家訪 問 量：2698詳細(xì)介紹
| 品牌 | JTONE/聚同 | 價(jià)格區(qū)間 | 1-2萬 |
|---|---|---|---|
| 工作壓力 | 低壓 | 儀器材質(zhì) | 不銹鋼,玻璃,防腐塑料 |
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè) |
嘉興市智能光催化反應(yīng)儀控溫型
反應(yīng)釜的控制算法及其動(dòng)態(tài)特性
為了對釜內(nèi)溫度進(jìn)行較為J確的控制，有必要將反應(yīng)過程分成釜內(nèi)物料升溫過程和化學(xué)反應(yīng)開始兩個(gè)階段，其每個(gè)過程中釜內(nèi)溫度的變化情況有較大的差異。下面將對這兩個(gè)過程加以分析。
（1）升溫過程 一般的化學(xué)反應(yīng)在常溫條件下基本上可以忽略其反應(yīng)速率，所以需要采用加熱裝置對釜內(nèi)物料進(jìn)行加熱。
（2）反應(yīng)過程 一旦化學(xué)反應(yīng)開始，由于反應(yīng)過程中會(huì)自動(dòng)放熱，所以釜內(nèi)溫度會(huì)升高的越來越快。當(dāng)內(nèi)部溫度達(dá)到催化劑Z適宜的溫度時(shí)，化學(xué)反應(yīng)達(dá)到Z快。當(dāng)溫度超過給定值時(shí)，催化劑的活性被抑制，從而使化學(xué)反應(yīng)的速率迅速下降，所以為了將釜內(nèi)溫度控制在某一適宜的溫度范圍內(nèi)，所以采用對釜內(nèi)進(jìn)行冷劑噴霧來平衡釜內(nèi)的溫度，從而使釜內(nèi)的化學(xué)反應(yīng)始終保持在Z適宜的狀態(tài)下
關(guān)鍵詞：光化學(xué)反應(yīng)儀，光催化反應(yīng)釜，光化學(xué)反應(yīng)釜
嘉興市智能光催化反應(yīng)儀控溫型
技術(shù)參數(shù)Technical Parameter
型號(hào) | JT-GHX-A | JT-GHX-AC | JT-GHX-B | JT-GHX-BC | JT-GHX-D | JT-GHX-DC |
主體部分(含暗箱) | 光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小；集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用 汞燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)； 氙燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)； 金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。 | |||||
小容量反應(yīng)部分 | 石英試管規(guī)格：30ml、50ml（或定做）； | / | 石英試管規(guī)格：30ml、50ml（或定做） | |||
可同時(shí)處理8個(gè)樣品（或定做） | 可同時(shí)處理8個(gè)樣品（或定做） | |||||
八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個(gè)樣品的攪拌速度（或定做） | 八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個(gè)樣品的攪拌速度（或定做） | |||||
大容量反應(yīng)部分 | / | 玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。 | 玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。 | |||
大功率強(qiáng)力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。 | 大功率強(qiáng)力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。 | |||||
控溫裝置 | / | 配備雙層石英冷阱 | / | 配備雙層石英冷阱 | / | 配備雙層石英冷阱 |
冷卻水循環(huán)裝置制冷量：＞1000W | 冷卻水循環(huán)裝置制冷量：＞1000W | 冷卻水循環(huán)裝置制冷量：＞1000W | ||||
控溫范圍：-5°C到100°C（或按照用戶要求） | 控溫范圍：-5°C到100°C（或按照用戶要求） | 控溫范圍：-5°C到100°C（或按照用戶要求） | ||||
冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥 | 冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥 | 冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥 | ||||
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